ఉక్కు, మెటలర్జీ, రసాయన పరిశ్రమ, వైద్య, తేలికపాటి పరిశ్రమ, నిర్మాణ వస్తువులు, ఎలక్ట్రానిక్స్ మరియు ఇతర రంగాలలో హైడ్రోజన్ విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది. హైడ్రోజన్‌ను ఉత్పత్తి చేయడానికి మిథనాల్ సంస్కరణ సాంకేతికత తక్కువ పెట్టుబడి, కాలుష్యం మరియు సులభమైన ఆపరేషన్ వంటి ప్రయోజనాలను కలిగి ఉంది. ఇది అన్ని రకాల స్వచ్ఛమైన హైడ్రోజన్ ప్లాంట్లలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడింది.
మిథనాల్ మరియు నీటిని ఒక నిర్దిష్ట నిష్పత్తిలో కలపండి, ఒక నిర్దిష్ట ఉష్ణోగ్రత మరియు పీడనాన్ని చేరుకోవడానికి మిశ్రమ పదార్థాన్ని ఒత్తిడి చేయడం, వేడి చేయడం, ఆవిరి చేయడం మరియు వేడెక్కడం, తర్వాత ఉత్ప్రేరకం సమక్షంలో, మిథనాల్ క్రాకింగ్ రియాక్షన్ మరియు CO షిఫ్టింగ్ రియాక్షన్ ఒకే సమయంలో పని చేస్తాయి మరియు H2, CO2 మరియు కొద్ది మొత్తంలో అవశేష CO తో గ్యాస్ మిశ్రమం.
మొత్తం ప్రక్రియ ఒక ఎండోథర్మిక్ ప్రక్రియ. ప్రతిచర్యకు అవసరమైన వేడిని ఉష్ణ వాహక నూనె యొక్క ప్రసరణ ద్వారా సరఫరా చేయబడుతుంది.
ఉష్ణ శక్తిని ఆదా చేయడానికి, రియాక్టర్‌లో ఉత్పత్తి చేయబడిన మిశ్రమ వాయువు పదార్థ మిశ్రమం ద్రవంతో ఉష్ణ మార్పిడిని చేస్తుంది, తరువాత ఘనీభవిస్తుంది మరియు శుద్దీకరణ టవర్‌లో కడుగుతారు. సంక్షేపణం మరియు వాషింగ్ ప్రక్రియ నుండి మిశ్రమం ద్రవం శుద్దీకరణ టవర్‌లో వేరు చేయబడుతుంది. ఈ మిశ్రమం ద్రవం యొక్క కూర్పు ప్రధానంగా నీరు మరియు మిథనాల్. ఇది రీసైక్లింగ్ కోసం ముడి పదార్థాల ట్యాంక్‌కు తిరిగి పంపబడుతుంది. క్వాలిఫైడ్ క్రాకింగ్ గ్యాస్ అప్పుడు PSA యూనిట్‌కి పంపబడుతుంది.
సాంకేతిక లక్షణాలు
1. అధిక తీవ్రత (ప్రామాణిక మాడ్యులరైజేషన్), సున్నితమైన ప్రదర్శన, నిర్మాణ సైట్‌లో అధిక అనుకూలత: 2000Nm కంటే తక్కువ ప్రధాన పరికరం3/h స్కిడ్ చేయబడుతుంది మరియు మొత్తంగా సరఫరా చేయబడుతుంది.
2. తాపన పద్ధతుల వైవిధ్యం: ఉత్ప్రేరక ఆక్సీకరణ తాపన; స్వీయ-తాపన ఫ్లూ గ్యాస్ సర్క్యులేషన్ తాపన; ఇంధన ఉష్ణ వాహక చమురు కొలిమి తాపన; ఎలక్ట్రిక్ హీటింగ్ హీట్ కండక్షన్ ఆయిల్ హీటింగ్.
3. తక్కువ పదార్థం మరియు శక్తి వినియోగం, తక్కువ ఉత్పత్తి వ్యయం: కనీస మిథనాల్ వినియోగం 1Nm3హైడ్రోజన్ <0.5kg అని హామీ ఇవ్వబడింది. వాస్తవ ఆపరేషన్ 0.495kg.
4. ఉష్ణ శక్తి యొక్క క్రమానుగత పునరుద్ధరణ: ఉష్ణ శక్తి వినియోగాన్ని పెంచండి మరియు ఉష్ణ సరఫరాను 2% తగ్గించండి;
5. పరిణతి చెందిన సాంకేతికత, సురక్షితమైనది మరియు నమ్మదగినది
6. ప్రాప్తి చేయగల ముడిసరుకు మూలం, సౌకర్యవంతమైన రవాణా మరియు నిల్వ
7. సాధారణ విధానం, అధిక ఆటోమేషన్, ఆపరేట్ చేయడం సులభం
8. పర్యావరణ అనుకూలమైనది, కాలుష్య రహితమైనది
మిథనాల్ మరియు నీటిని ఒక నిర్దిష్ట నిష్పత్తిలో కలపండి, ఒక నిర్దిష్ట ఉష్ణోగ్రత మరియు పీడనాన్ని చేరుకోవడానికి మిశ్రమ పదార్థాన్ని ఒత్తిడి చేయడం, వేడి చేయడం, ఆవిరి చేయడం మరియు వేడెక్కడం, తర్వాత ఉత్ప్రేరకం సమక్షంలో, మిథనాల్ క్రాకింగ్ రియాక్షన్ మరియు CO షిఫ్టింగ్ రియాక్షన్ ఒకే సమయంలో పని చేస్తాయి మరియు H తో గ్యాస్ మిశ్రమం2, CO2మరియు కొద్ది మొత్తంలో అవశేష CO.
మిథనాల్ క్రాకింగ్ అనేది అనేక వాయువు మరియు ఘన రసాయన ప్రతిచర్యలతో కూడిన సంక్లిష్టమైన మల్టీకంపొనెంట్ ప్రతిచర్య
ప్రధాన ప్రతిచర్యలు:
| CH3ఓహ్ |
| CO + H2ఓ |
సారాంశ ప్రతిచర్య:
CH3OH + H2ఓ CO2+ 3H2– 49.5kJ/mol |
మొత్తం ప్రక్రియ ఒక ఎండోథర్మిక్ ప్రక్రియ. ప్రతిచర్యకు అవసరమైన వేడిని ఉష్ణ వాహక నూనె యొక్క ప్రసరణ ద్వారా సరఫరా చేయబడుతుంది.
ఉష్ణ శక్తిని ఆదా చేయడానికి, రియాక్టర్‌లో ఉత్పత్తి చేయబడిన మిశ్రమ వాయువు పదార్థ మిశ్రమం ద్రవంతో ఉష్ణ మార్పిడిని చేస్తుంది, తరువాత ఘనీభవిస్తుంది మరియు శుద్దీకరణ టవర్‌లో కడుగుతారు. సంక్షేపణం మరియు వాషింగ్ ప్రక్రియ నుండి మిశ్రమం ద్రవం శుద్దీకరణ టవర్‌లో వేరు చేయబడుతుంది. ఈ మిశ్రమం ద్రవం యొక్క కూర్పు ప్రధానంగా నీరు మరియు మిథనాల్. ఇది రీసైక్లింగ్ కోసం ముడి పదార్థాల ట్యాంక్‌కు తిరిగి పంపబడుతుంది. క్వాలిఫైడ్ క్రాకింగ్ గ్యాస్ అప్పుడు PSA యూనిట్‌కి పంపబడుతుంది.
ప్రెజర్ స్వింగ్ అధిశోషణం (PSA) అనేది ఒక నిర్దిష్ట యాడ్సోర్బెంట్ (పోరస్ ఘన పదార్థం) యొక్క అంతర్గత ఉపరితలంపై గ్యాస్ అణువుల భౌతిక శోషణపై ఆధారపడి ఉంటుంది. యాడ్సోర్బెంట్ అధిక-మరిగే భాగాలను శోషించడం సులభం మరియు అదే ఒత్తిడిలో తక్కువ-మరిగే భాగాలను శోషించడం కష్టం. అధిశోషణం మొత్తం అధిక పీడనంతో పెరుగుతుంది మరియు తక్కువ పీడనం కింద తగ్గుతుంది. ఫీడ్ గ్యాస్ ఒక నిర్దిష్ట పీడనం కింద అధిశోషణం మంచం గుండా వెళుతున్నప్పుడు, అధిక-మరిగే మలినాలను ఎంపిక చేసి శోషించబడతాయి మరియు సులభంగా శోషించబడని తక్కువ-మరుగుతున్న హైడ్రోజన్ బయటకు వస్తుంది. హైడ్రోజన్ మరియు అశుద్ధ భాగాల విభజన గ్రహించబడింది.
శోషణ ప్రక్రియ తర్వాత, యాడ్సోర్బెంట్ ఒత్తిడిని తగ్గించేటప్పుడు శోషించబడిన మలినాన్ని డీసోర్బ్ చేస్తుంది, తద్వారా అది మళ్లీ శోషణం మరియు వేరు వేరు మలినాలను పునరుత్పత్తి చేయవచ్చు.
1. H2-రిచ్ గ్యాస్ మిశ్రమం నుండి H2 రీసైక్లింగ్ (PSA-H2)
స్వచ్ఛత: 98%~99.999%
2. CO2 విభజన మరియు శుద్దీకరణ (PSA - CO2)
స్వచ్ఛత: 98~99.99%.
3. CO విభజన మరియు శుద్దీకరణ (PSA - CO)
స్వచ్ఛత: 80%~99.9%
4. CO2 తొలగింపు (PSA – CO2 తొలగింపు)
స్వచ్ఛత: <0.2%
5. PSA - C₂+ తొలగింపు
* VPSA ఆక్సిజన్ ఉత్పత్తి ప్రక్రియ వినియోగదారు యొక్క విభిన్న ఎత్తు, వాతావరణ పరిస్థితులు, పరికరం పరిమాణం, ఆక్సిజన్ స్వచ్ఛత (70%~93%) ప్రకారం “అనుకూలీకరించిన” డిజైన్‌ను అమలు చేస్తుంది.
